Công nghệ pha gallium vốn được biết đến như một phương pháp hiệu quả để ngăn chặn sự xuống cấp do ánh sáng (LID) và vấn đề này đặc biệt quan trọng trong cấu trúc pin của tấm pin năng lượng mặt trời. Các nhà sản xuất tế bào và mô-đun đã dành nhiều sự quan tâm đến công nghệ này nhưng do chi phí của gallium quá cao so với boron nên việc ứng dụng còn nhiều hạn chế. Thay vào đó, hầu hết các nhà sản xuất đã thực hiện quy trình tái tạo nhiệt độ cao để giảm thiểu LID, tuy nhiên, chúng không mang lại hiệu quả như mong đợi.
Chính vì vậy, công nghệ mới được cấp quyền sở hữu trí tuệ của JA Solar được kỳ vọng sẽ trở thành giải pháp hiệu quả ngăn sự xuống cấp do ánh sáng trong sản xuất mô-đun đồng thời giúp đảm bảo hiệu suất của các mô-đun PV được lắp ráp với pin mặt trời.
Ông Jin Baofang, Chủ tịch Hội đồng quản trị JA Solar cho biết việc sử dụng tấm silicon pha tạp Ga cho ứng dụng sản xuất tấm pin mặt trời chắc chắn sẽ mang lại hiệu suất lớn hơn cũng như kéo dài tuổi thọ cho pin mặt trời và mô-đun PV.
“Chúng tôi đánh giá cao việc Shin-Etsu Chemical cấp phép cho JA Solar quyền sở hữu trí tuệ đối với công nghệ silicon tinh thể pha tạp gallium. Đây là một bước tiến quan trọng tạo tiền đề cho JA Solar giới thiệu công nghệ tiên tiến và hỗ trợ bảo vệ sở hữu trí tuệ. JA Solar sẽ tiếp tục phát triển và cung cấp các sản phẩm PV hiệu suất cao cùng các giải pháp năng lượng sạch cho khách hàng trên toàn thế giới thông qua những cải tiến hiệu suất và công nghệ không ngừng nghỉ”, theo lời ông Jin Baofang.
Được biết, buổi lễ ký kết thỏa thuận chính thức giữa JA Solar và Shin-Etsu Chemical đã diễn tại Tokyo, Nhật Bản và hai bên đều không cung cấp chi tiết thông tin về các công nghệ cụ thể được đề cập trong thỏa thuận.
Thúy Hằng